MBE-400 主要采用氩弧焊加工的圆柱形316不锈钢腔体,腔体顶部法兰尺寸为DN350CF,最多能安装10个蒸发源。预留多种法兰口,安装法兰兼容RGA、RHEED、BFM等多种原位测量,束流挡板瞬时可控,实现2inch高质量薄膜生长。
● 蒸发源差分设计,允许在高氧或臭氧分压下沉积氧化物材料 | ● 无需破坏生长腔真空,实现蒸发源的填料和替换 | ● 可选用高纯臭氧发生系统或者射频等离子源作为氧源 |
MBE 400 | 模块描述 | 配置参数 | |
生长室 | 腔体 | 腔体材料 | SS316 |
腔体尺寸 | 300mm I.D | ||
烘烤温度 | Max.200℃ | ||
本底真空 | < 5×10-10 mbar | ||
抽气系统 | 700L/s分子泵+10m3/h机械泵 | ||
真空测量系统 | 离子规+Pirani规 | ||
液氮冷屏 | 选配 | ||
离子泵 | 选配 | ||
低温泵 | 选配 | ||
样品架 | 样品最大尺寸 | 2 inch | |
衬底加热方式 | 辐射加热 | ||
衬底加热器温度 | 室温-1200K | ||
电子束加热 | 选配 | ||
衬底加热方式 | 选配 | ||
液氮制冷模块 | 选配 | ||
部件 | 蒸发源配置 | 6xDN40CF, 2xDN63CF | |
独立的蒸发源挡板 | 气动驱动 | ||
QCM | 标配 | ||
RHEED | 15KeV-30KeV | ||
Ion Source | 选配 | ||
RGA | 选配 | ||
快速进样室 | 腔体 | 腔体材料 | SS316 |
烘烤温度 | Max.200℃ | ||
本底真空 | <5×10-8 mbar | ||
抽气系统 | 80L/s分子泵+10m3/h机械泵 | ||
真空测量系统 | 全量程规 | ||
部件 | 样品停放台 | 3工位 | |
系统集成及控制 | GUIDE软件 | 标配 | |
烘烤系统 | 标配 | ||
系统支架 | 标配 | ||
真空照明系统 | 选配 | ||
等离子清洗 | 选配 | ||
CCD相机 | 选配 |
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