RFPS射频等离子体源，专门为高通量活性中性产物设计。通过线圈式结构，能在真空腔体内激发产生等离子体，激励气体种类包括但不限于H2、N2、O2、稀有气体等，具有更好的稳定性以及更精确的操控性。可为MBE和钝化处理系统提供高通量原子氢、原子氧、原子氮。特殊的喷口片结构设计，可有效抑制高能粒子对衬底表面损伤，并且能够优化束流分布。
RFPS配套的全自动射频电源匹配器，可快速匹配。
| ● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长 | ● 精确的操控性能，简单易用 | ● 内有原子筛选孔，使离子尽可能少的到达衬底。可以根据需求更换引出端口 |
| 蒸发源型号 | RFPS200-A | RFPS200-B | RFPS200-C | RFPS200-D | |
| 气体负载 | N2、H2 | O2、H2 | N2、H2 | O2、H2 | |
| 离子产生区材料 | PBN | 石英 | PBN | 石英 | |
| 安装法兰尺寸 | CF63 | CF100 | |||
| 总长度 (mm) | 824±2 | 824±2 | |||
| 真空内长度 (mm) | 400±2 | 400±2 | |||
| 真空内外径 (mm) | 54 | 71 | |||
| 冷却方式口 | ≥0.5；推荐大于2 | ||||
| 进气接口 | 1/4VCR | ||||
| 射频匹配器 | 13.56MHz / 500W；1000W可选 | ||||
| 等离子体光谱检测 | 选配 | ||||
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