| ● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长 | ● 精确的操控性能，简单易用 | ● 可以根据需求更换引出端口 |
| ● 内有原子筛选孔,使离子体尽可能少的到达衬底 | ● 适用于MBE、真空解理镀膜、氢原子衬底清洗等系统 |
| 类型 | FERMI-RFPS-200 | |
| 真空兼容性 | CF100标准法兰 | |
| 气体负载 | N2，H2 | O2,H2 |
| 离子产生区材料 | PBN | 石英 |
| 冷却方式 | 水冷 | |
| 进气装置 | VCR1/4接头 | |
| 真空工作距离 | 100-200mm | |
| 射频匹配器 | 13.56MHz/500瓦 | |
| 水冷流速 | >1 L/min | |
| 手动、自动射频匹配器 | 可选 | |
| 等离子体光谱检测 | 可选 | |
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