EN 021-6525 3206

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高束流射频等离子体源

RFPS-200M射频等离子体源使用13.56MHz射频电源驱动,通过线圈式结构激发产生等离子体,具有更好的稳定性以及更精确的操控性。结构更加紧凑,体积、功率较小,适合科研使用。


产品特点
● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长● 精确的操控性能,简单易用● 内有原子筛选孔,使带电粒子尽可能少地到达衬底
● 可以根据需求更换引出端口● 适用于MBE外延、真空解理镀膜、氢原子衬底清洗等系统



                                               
规格参数


安装法兰CF40
工作气压10-5 - 10-2mbar
最大功率300W
匹配器自动
裂解腔材质 PBN/石英
真空内长度300mm
工作距离100 – 300 mm


标签: 超高真空MBE
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