RFPS-200M射频等离子体源使用13.56MHz射频电源驱动,通过线圈式结构激发产生等离子体,具有更好的稳定性以及更精确的操控性。结构更加紧凑,体积、功率较小,适合科研使用。
● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长 | ● 精确的操控性能,简单易用 | ● 内有原子筛选孔,使带电粒子尽可能少地到达衬底 |
● 可以根据需求更换引出端口 | ● 适用于MBE外延、真空解理镀膜、氢原子衬底清洗等系统 |
安装法兰 | CF40 |
工作气压 | 10-5 - 10-2mbar |
最大功率 | 300W |
匹配器 | 自动 |
裂解腔材质 | PBN/石英 |
真空内长度 | 300mm |
工作距离 | 100 – 300 mm |
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