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超高真空解理镀膜系统

真空解理镀膜系统可实现高功率激光器巴条的超高真空原位解理(Cleaving)、钝化(Passivation)和光学镀膜(Optical Coating)。在超高真空环境下进行激光二极管巴条的原位解理,可获得无缺陷、无污染的单晶解理面。解理后的巴条经过圆形传递腔室(Cluster Tool)传输到镀膜腔室进行钝化膜或光学膜蒸镀。全流程在优于2*E-10 torr的超高真空环境下进行,实现高质量器件生产。

全自动化机械臂组件安装于圆形传递腔室,具备360°旋转和伸缩功能,可完成托盘在各个作业腔室的自动抓取和放置。机械臂配置激光传感器以及视觉定位系统,以检测机械臂在系统内运动实时状态,并可进行零点位置校正。

超高真空解理系统可实现巴条的手动或批量自动化解理和堆叠,提高生产效率。

镀膜腔室基于费勉标准MBE系统设计,根据钝化层蒸镀工艺需求可配置多种类型蒸发源包括电子束源(E-beam)、热蒸发源(K-cell)、等离子源(Plasma)以及裂解源(Cracker)。通过使用BFM、QCM、RGA、RHEED等,可进行膜层实时原位表征。腔室配置多维运动样品停放台,可配合传样及镀膜过程中所需运动。各运动轴搭配光电信号检测系统,保证运动重复性和安全性。镀膜过程可全自动化控制,包括生长工艺Recipe编写,自动生长控制以及不间断数据记录三大功能。各类温度以及运动等控制都可在PC端轻松操控,数据曲线读取便捷。

规格说明
快速进出样腔
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● 可装载10层样品托盘,单个托盘多工位;

● 红外烘烤灯泡可进行快速样品除气;

● 远程等离子清洗模块,载样托盘和样品架等结构件清洁,可有效提高清洁度和腔室真空度;

● 进样和出样腔室独立操作,提高生产效率;


圆形传递腔室


● 侧面多法兰口,可对接多个子系统,且子系统独立作业互不影响;

● 机械臂具备360°旋转和伸缩功能;

● 配合传感器等控制反馈实现全自动化传样;


真空解理腔

● 实现巴条解理和堆叠;

● 单次可批量处理多工位样品;


钝化镀膜腔
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● 多个底部法兰口,可兼容热炉源、电子束蒸发源、射频等离子源、裂解源等;

● 衬底加热器温度650±0.5℃;

● 实时束流监测,QCM晶振或BFM束流规;

● 实时膜层监控RHEED;

● 多轴样品停放台实现样品原位翻转或配置独立翻转室;

● 自动生长系统,不间断数据记录;



标签: 超高真空MBE
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