EN 021-6525 3206

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化学气相沉积系统(CVD)

费勉仪器可提供传统管式炉CVD设备和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备。由于等离子体的存在,PECVD中发生薄膜沉积的温度会远远低于传统CVD中的薄膜沉积温度。

规格说明
  炉膛尺寸60/80/100/120×400mm (直径×加热区)  使用温度:最高温度 1200℃,连续工作温度 ≤1100℃  真空度:<1E-3mbar(机械泵)
  温控系统:有PID调节、自整定功能  控温精度:±1℃  升温速度:推荐 ≤10℃/min ,最快升温速度 15℃/min
  控温模式:功率5-500W频率13.56MHz自动匹配  互联情况:可与多种薄膜制备、表征量测设备互联




           

实物图

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标签: 超高真空MBE
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