| 配置 | MBE-800P 分子束外延系统 | |
| 生长室 | 腔体尺寸 | 650mm I.D. |
| 液氮冷屏 | 标配 | |
| 衬底加热器最高温度 | 1000℃ | |
| 衬底加热器温度稳定性 | ±0.2℃ | |
| 衬底最大尺寸 | 6inch | |
| 衬底最大旋转速度 | 60RPM | |
| 蒸发源配置 | 12×CF100 | |
| 独立的蒸发源挡板 | 电机驱动 | |
| 烘烤温度 | 200℃ | |
| RHEED | 15~30keV | |
| RGA | 0-200amu | |
| 预处理 | 预处理加热器最高温度 | 600℃ |
| 进样室 | 样品停放台 | 6个 |
| 红外烘烤灯 | 选配 | |
| MBE软件 | GUIDE软件 | 加配 |
| 选配 | CCD相机 | 选配 |
| 手套箱 | 选配 | |
| 污染物回收系统 | 选配 | |
| 真空照明系统 | 选配 | |
| 泵车 | 选配 | |
| 真空照明系统 | 选配 | |
| 原子吸收光谱束流监测系统AAFM-3 | 选配 | |
| 衬底真实温度监控系统BTM-100 | 选配 | |
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