MBE-1000Cluster全自动传样系统 您当前的位置: 首页 > 产品中心 > 薄膜制备 > 系统产品 > MBE-1000Cluster全自动传样系统

产品概述 Product Overview

费勉仪器推出了MBE-1000 Cluster分子束外延系统,可进行5×3'',4×4'',单片6'', 单片8''衬底外延生长。该系统可实现全自动传样和生长,非常适用于化合物半导体器件的批量生产。生长室采用双温区衬底加热,实现生长温度均匀可控。MBE-1000系统可定制10个蒸发源端口或12个蒸发源端口。


MBE-1000 Cluster全自动传样系统将不同腔体集成在圆形传样腔上,采用360°连续旋转的重载机械臂组件可进行10英寸衬底托盘在进样室,预处理室,生长室和存储腔之间传递。


根据客户需求,费勉仪器提供不同型号的热蒸发源、裂解源、电子束蒸发源和气体源。系统可安装RHEED、BFM、RGA等,实现对薄膜生长的原位监控。系统可以搭配费勉仪器的MBE束流监测光谱系统,实现可重复性和批量性的完全自动化生长。费勉仪器提供MBE操作软件,包括生长工艺程序编写、自动生长控制和不间断数据记录三大功能,可以执行生长工艺程序控制挡板运动,源炉温度,衬底温度,衬底旋转速度和方向。控制软件包括温度曲线,真空压力曲线,电源输出功率曲线,各系统间传样等工艺需求功能。




技术规格 Mechanical Specifications


配置 MBE-1000 Cluster全自动传样系统
生长室
腔体尺寸 900mm I.D.
极限真空 <2×10-10mbar
液氮冷屏 标配
冷屏通液氮后极限真空
<5×10-11mbar
衬底加热器最高温度
1000℃
衬底加热器温度稳定性
PID控制,±0.5℃
衬底最大尺寸
8inch
衬底最大旋转速度
40RPM
蒸发源配置
选配
独立的蒸发源挡板
电机驱动
离子规
1×10-3~2×10-11mbar
烘烤温度
200℃
预处理 极限真空 <8×10-11mbar
液氮冷屏 标配
预处理加热器最高温度
450℃
离子规 1×10-3~2×10-11mbar
进样室 极限真空 <1×10-8mbar
腔体水冷夹层 选配
样品停放台 15个
红外烘烤灯 选配
离子规 1×10-3~5×10-9mbar
传样腔
极限真空
<5×10-10 mbar
传样时真空
<1×10-9mbar
离子规
1×10-3~2×10-11mbar
存储腔 样品停放台 3-15个(选配)
系统控制 触摸屏操作面板
加配
生长工艺程序编写
加配
自动生长控制
加配
不间断数据记录 加配
报警保护功能 加配
联锁功能 加配
选配 出样室 选配
CCD
选配
手套箱 选配
磷回收系统
选配
衬底红外测温系统
选配
真空照明系统
选配
SMS 选配
MBE束流监测光谱系统 选配




MBE-1000 配套蒸发源


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