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产品概述 Product Overview

为了实现在4英寸晶圆上外延生长半导体材料,费勉仪器推出了MBE-800分子束外延系统。标准版系统采用双温区衬底加热器,并包含12个蒸发源端口,可实现复杂结构薄膜的精确逐层生长。MBE-800的定制版本也涵盖了特定的生产需求,例如超高真空离子辅助镀膜系统。
MBE-800系统具有高可靠性、多功能性和紧凑性,可兼容4英寸以下衬底外延生长。该系统不仅可以作为应用研发设备,同时也适用于准批量生产应用。


MBE-800手动传样系统


MBE-800手动传样系统,采用磁耦合传样杆,可进行4英寸样品传递。机械手行程可达1200mm,满足衬底在生长腔室和预处理腔室之间传递。同时机械手可在垂直方向提供25mm的移动空间,满足衬底取放操作。该传样系统无需使用二次运动工具,在降低成本的同时极大的简化了衬底传输步骤。
MBE-800手动传样系统还可将快速进样室与热处理室通过直线段连接,由费勉仪器自行研制的真空传样小车不仅可以实现衬底在快速进样室和预处理室之间自由转移,并可极大提升样品停放数量,使该系统更适合准批量化生产应用。

MBE-800全自动传样系统


MBE-800 Cluster全自动传样系统,将不同腔体集成在圆形传样腔上,并搭配360°连续旋转的机械臂组件,最大行程1350mm,可以实现衬底在不同腔室之间的真空传递。通过高扭矩磁耦合驱动器驱动机械臂旋转,并由安装在机械臂前端的定位基片实现精准定位。机械臂通过线性驱动可以在垂直方向提供0~25mm自由移动,实现衬底的取放操作。


根据客户需求,费勉仪器提供不同型号的热蒸发源、裂解源、电子束蒸发源和气体源。系统可安装RHEED、QCM、BFM、RGA、OFM等,实现对薄膜生长的原位监控。费勉仪器提供MBE操作软件,包括生长工艺程序编写、自动生长控制和不间断数据记录三大功能,可以执行生长工艺程序控制挡板运动,源炉温度,衬底温度,衬底旋转速度和方向。控制软件包括温度曲线,真空压力曲线,电源输出功率曲线,各系统间传样等工艺需求功能,保证生长过程的可重复性和安全性。


技术规格 Mechanical Specifications


配置 MBE-800
生长室
腔体尺寸 650mm I.D.
极限真空 <2×10-10mbar
液氮冷屏 标配
冷屏通液氮后极限真空
<5×10-11mbar
衬底加热器最高温度
1000℃
衬底加热器温度稳定性
PID控制,±0.5℃
衬底最大尺寸
4 inch
衬底旋转
60RPM
蒸发源配置
CF63×2/CF100×7 / CF125×3
独立的蒸发源挡板
电机驱动
离子规
1×10-3~2×10-11mbar
烘烤温度
200℃
预处理 极限真空 <2×10-10mbar
腔体水冷夹层 选配
预处理加热器最高温度
450℃
离子规 1×10-3~2×10-11mbar
进样室 极限真空 <1×10-8mbar
腔体水冷夹层 选配
样品停放台 4~10个
红外烘烤灯 选配
全量程规
1×103~5×10-9mbar
传样室 极限真空 <5×10-10mbar
传样时压力 <1×10-9mbar
手动传样最大行程 1200mm
自动传样最大行程 1350mm
离子规 1×10-3~2×10-11mbar
存储室 样品停放台 10个(选配)
系统控制 触摸屏操作面板
加配
生长工艺程序编写
加配
自动生长控制
加配
不间断数据记录 加配
报警保护功能 加配
联锁功能 加配
选配 CCD 选配
手套箱 选配
磷回收系统
选配
衬底红外测温系统
选配
真空照明系统
选配
SMS 选配




MBE-800 配套蒸发源


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